مشخصات این فایل
عنوان:سیلیسیوم
فرمت فایل : word( قابل ویرایش)
تعداد صفحات: 32
این مقاله درمورد سیلیسیوم می باشد.
بخشی از تیترها به همراه مختصری از توضیحات هر تیتر از مقاله سیلیسیوم
سیلیسیوم
در اوایل دهه 1950 ژرمانیوم مهمترین ماده نیمه رسانا بود مع ذلک ثابت شد که ژرمانیوم برای بسیاری از کاربردها مناسب نمی باشد. زیرا قطعات ژرمانیوم حتی در دماهایی که بطور معتدل بالا می روند نشت جریان بالایی را نشان می دهند به علاوه اکسید ژرمانیوم در آب قابل حل است و برای ساخت قطعات مناسب نیست، از اوایل دهه 1960 به بعد سیلیسیوم به یک جانشین عملی تبدیل شده است و اینک واقعاً ژرمانیوم را به عنوان یک ماده برای ساخت نیمه هادی از میدان خارج کرده است.
دلیل عمده استفاده از سیلیسیوم این است که قطعات سیلیسیومی جریان نشت کمتری را نشان می دهند و اکسید سیلیسیوم با کیفیت بالا را می توان به طور گرمایی رشد داد و از طرف دیگر قطعات سیلیسیوم اصلاح شده خیلی ارزانتر از مواد نیم رسانای دیگر هستند. سیلیسیوم به شکل سیلیکا و سیلیکاتها 25% پوسته زمین را تشکیل می دهد، و سیلیسیوم بعد از اکسیژن از نظر .....(ادامه دارد)
ساختار بلوی سیلیسیوم
در یک بلور اتمها به طریق سه بعدی دوره ای آرایش یافته اند. آرایش دوره ای اتمها در بلور شبکه نامیده می شود. در بلو، یک اتم هرگز دور از یک مکان ثابت، منفرد سرگردان نمی باشد. ارتعاشات گرمایی مربوط به این اتم حول این مکان متمرکز میشود. برای یک نیم رسانای معین یک یاخته واحد وجود دارد که نماینده تمام شبکه است، با تکرار یاخته واحد در سرتاسر بلور، می توان تمام شبکه را ایجاد نمود. سیلیسیوم دارای یک ساختار شبکه الماسی با ثابت شبکه A 43/5 آنگستروم می باشد. (شکل 3-1) این ساختار متعلق به خانواده بلور مکعبی هست و می توان آن را به صورت دو زیر شبکه مکعبی fcc که در یکدیگر نفوذ کرده اند، مشاهده نمود.
بدین طریق که یک زیر شبکه به اندازه یک چهارم فاصله در راستای قطر مکعب (یعنی تغییر مکانی به اندازه ) نسبت به زیر شبکه دیگر جابجا شده است.
تمام اتمها در شبکه الماسی یکسان هستند و هر اتم در شبکه الماسی با چهار نزدیکترین همسایه که با فاصله مساوی در گوشه های یک چهار وجهی قرار دارند احاطه شده است. (به کره های متصل .....(ادامه دارد)
- نیم رساناهای گاف مستقیم و غیرمستقیم
مرسوم است که دو گروه اصلی نیم رساناها را که دارای گافهای مستقیم و غیرمستقیم هستند را از هم متمایز کنیم. وقتی در فضای P کمینه نوار رسانش منطبق با بیشینه نوار ظرفیت گردد. نیم رسانا را نیم رسانای گاف مستقیم می گویند در این مورد Cds، InSb، GaAs و بسیاری دیگر از ترکیبات III-V یا II-VI که ناشی از ترکیب عناصر گروههای سه و پنچ یا دو و شش جدول تناوبی عناصر را نام برد. از طرف دیگر وقتی کمینه نوار رسانایی در فضای P منطبق با بیشینه نوار ظرفیت نباشد دارای نیم رسانای گاف غیرمستقیم هستیم. عناصر نیم رسانای Si و Ge مثالهای مهمی از نیم رسانای غیرمستقیم هستند ]5[.
شکل 7-1 نمودارهای نوار انرژی را برای سیلیسیوم وگالیوم آرسنید نشان می دهد که در آن انرژی برحسب اندازه حرکت بلوری برای دو راستای بلور رسم شده است. توجه داریم که میان پائین ترین نوار رسانش و بالای نوار ظرفیت گاف نواری .....(ادامه دارد)
فرآیندهای تولید و بازترکیب
هر الکترونی که بتواند بطریقی مقدار انرژی لازم برای گذار از نوار ظرفیت به نوار رسانش را کسب کند، از نوار ظرفیت به نوار رسانش گذار خواهد نمود، گذار الکترون به سمت بالا، یک حفره بجای می گذارد، بطوریکه یک زوج الکترون- حفره تولید میشود. این فرایند تولید حامل نامیده می شود که در شکل 1-8 با Gth نمایش داده شده است. عوامل موثر در فرآیند تولید حامل عبارتند از:
دما- نور و میدان الکتریکی
وقتی الکترونی از نوار رسانش به نوار ظرفیت می رود یک زوج الکترون حفره نابود می شود این فرآیند معکوس، باز ترکیب است که در شکل 8-1 با Rth نمایش داده شده است. هرگاه در حالت تعادل گرمایی اختلالی ایجاد شود (یعنی ) که n چگالی الکترون و P چگالی حفره ها و ni چگالی ذاتی حاملها است) فرآیندهایی برای بازگرداندن دستگاه به حالت تعادل یعنی بوجود می آیند. در حالت تزریق حاملهای افزونی، ساز و کاری که تعادل را باز می گرداند بازترکیب حاملهای اقلیت تزریق شده با حاملهای اکثریت است انرژی آزاد شدهای که از فرآیند بازترکیب نتیجه می شود، می تواند به صورت فوتون تابش گردد یا به صورت گرما به شبکه داده شود. وقتی .....(ادامه دارد)
بخشی از فهرست مطالب مقاله سیلیسیوم
مواد نیم رسانا
سیلیسیوم
ساختار بلوی سیلیسیوم
پیوندهای ظرفیت
نوارهای انرژی
نیم رساناهای گاف مستقیم و غیرمستقیم
فرآیندهای تولید و بازترکیب
دهندهها و پذیرندهها
تغییر انرژی شکاف نواری بر حسب دما
دانلود مقاله سیلیسیوم